Wet Bench Üniteleri.
Partikül ve iyonik kirliliğin ppt seviyelerinde tutulduğu yüzey hazırlama ve kimyasal aşındırma reaktörleri.
Trilyonda bir (ppt) seviyesinde temizlik gerektiren proseslerin ana reaktörleri.
Wet Bench sistemleri, partikül ve iyonik kirliliğin trilyonda bir (ppt) seviyelerinde tutulması gereken proseslerin ana reaktörleridir. Yüzey hazırlama ve kimyasal aşındırma adımlarında tam izolasyon, hidrodinamik kararlılık ve proses tekdüzeliği sağlanır.
Manuel Wet Bench Ar-Ge ve Butik Üretim İçin Esnek İstasyonlar
Ar-Ge laboratuvarları ve özel butik üretim hatları için tasarlanan bu istasyonlar, insan inisiyatifinin gerektiği esnek kimyasal süreçlerde operatör güvenliğini aerodinamik olarak en üst düzeye çıkaran mühendislik bariyerleridir. Düşük hacimli özel proseslerde hassas kimyasal temizlik, manuel daldırma ve yüzey hazırlama süreçlerini kusursuzca yönetir.
- Sistem Mimarisi
- FM4910 onaylı alev geciktirici Polipropilen (FRPP) monolitik gövde ve kızılötesi (IR) alın kaynağı ile birleştirilmiş eksiz sızdırmazlık noktaları.
- Akışkan ve Egzost Kontrolü
- Manuel PTFE diyaframlı valfler ile operatör solunum bölgesini izole eden lokal down-draft egzost kanalları.
- Kritik Uygulamalar
- Üniversitelerin nanoteknoloji laboratuvarlarında wafer RCA temizlik denemeleri ve medikal prototip üretiminde titanyum implantların manuel pasivasyonu.
Banyo çevresinde tasarlanan lokalize aşağı emişli (down-draft) egzost kanalları ve şeffaf polikarbonat sıçrama kalkanları (splash guards) ile operatörün solunum bölgesi kimyasal buharlardan tamamen izole edilir.
Her banyo hücresi fiziksel olarak birbirinden yüksek PP bariyerlerle ayrılır ve her kimyasal için bağımsız drenaj hatları oluşturularak sıvıların birbirine karışması önlenir.
Sistem, sıvı seviyesi belirli bir milimetrenin altına düştüğünde (low-level sensor) quartz veya floropolimer kaplı ısıtıcıların enerjisini otomatik kesen donanımsal interlock’lara sahiptir.
Modüler Wet Bench Tak-Çalıştır Esnekliğinde Ölçeklenebilir Platformlar
Değişken üretim reçetelerine anında uyum sağlayabilen ve hücresel yapısı sayesinde kapasite artırımında tak-çalıştır (plug-and-play) esnekliği sunan bu sistemler, geleceğe dönük proses platformlarıdır. Ölçeklenebilir üretim hatlarında farklı kimyasal banyo konfigürasyonlarının hızlıca değiştirilmesine olanak tanır.
- Sistem Mimarisi
- Üretim hattına hızla entegre edilebilen modüler tak-çıkar banyo kasetleri ve quick-disconnect PFA tubing altyapısı.
- Otomasyon Ağı
- Merkezi kontrol panosu (HMI) ile anlık haberleşen, kapalı döngü çalışan bağımsız I/O modülleri.
- Kritik Uygulamalar
- Havacılık sanayiinde değişken boyutlardaki RF modüllerinin seri temizliği ve yarı iletken test tesislerinde farklı aşındırma reçetelerinin tek bir hattan yönetilmesi.
Özel olarak frezelenmiş erkek-dişi (tongue and groove) polimer geçme sistemleri ve çift katmanlı EPDM/Viton contalar kullanılarak kimyasal buhar ve sıvı geçişi mikron mertebesinde engellenir.
Akışkan mekaniği altyapısı, değişken basınçları otomatik kompanse eden kapalı döngü oransal valf sistemleri (pressure regulators) ile donatılmıştır; bu sayede sisteme yeni bir yıkama modülü eklendiğinde mevcut debiler etkilenmez.
Evet, ana PLC her bir modülü alt bir proses düğümü (node) olarak tanır. Reçeteler, her hücre için spesifik sıcaklık, süre ve dozaj parametreleriyle bağımsız olarak programlanabilir.
Yarı Otomatik Wet Bench Tekrarlanabilirlik Odaklı PLC Kontrollü Reaktörler
Kritik proses parametrelerini (sıcaklık, debi, kimyasal konsantrasyon) makinenin otonom kararlarına bırakan bu verimlilik odaklı reaktörlerde, operatör yalnızca kaset yükleme/boşaltma işlemlerini üstlenir. Prosesin hidrodinamik ve termodinamik döngüleri otomatik işletilerek, tekrarlanabilirlik (repeatability) ve tutarlılık en üst düzeye çıkarılır.
- Transfer Dinamikleri
- Daldırma anındaki hidrodinamik şoku sönümleyen, yumuşak kalkışlı (soft-start) pnömatik asansör sistemleri.
- Proses Kontrolü
- Oransal debi kontrol valfleri (MFC) ve hassas iletkenlik/rezistivite probları ile desteklenen PLC otonomisi.
- Kritik Uygulamalar
- Savunma sanayii optik lenslerinin ultra-saf su ile ultrasonik yıkanıp kurutulması ve orta hacimli MEMS (Mikro Elektromekanik Sistemler) üretim hatları.
Cascade durulama banyolarının çıkış hattına yerleştirilen online rezistivite sensörleri, su saflığını sürekli okur. Değer hedeflenen seviyeye (örneğin 18 MΩ·cm) ulaşana kadar PLC döngüyü sonlandırmaz.
Konsantrasyon sensörlerinden gelen geri bildirimlerle, peristaltik veya diyaframlı dozaj pompaları banyoya eksilen kimyasalı mililitre hassasiyetinde otomatik olarak ekler.
Lift sistemindeki pnömatik veya servo motorlar, daldırma (immersion) hızını hidrodinamik şok oluşturmayacak şekilde yumuşak (soft-start/stop) bir profille gerçekleştirir.
Tam Otomatik Wet Bench SECS/GEM Entegre “Dark Factory” Sistemleri
İnsan müdahalesini tamamen elimine eden ve SECS/GEM entegrasyonu ile Endüstri 4.0 konseptinde haberleşen bu sistemler, kapalı döngü karanlık fabrika (dark factory) teknolojisinin zirvesini temsil eder. Yüksek hacimli seri üretimde kaset transferinden kimyasal yenilemeye ve arıza tespitine kadar tüm süreçler uçtan uca otonom yönetilir.
- Robotik Mimarisi
- Çok eksenli servo kontrollü robotik kollar (hoist) ve partikül izolasyonlu kapalı mekanik gövdeler.
- Sistem Entegrasyonu
- HEPA/ULPA filtreli mikro-klima kabini, Entegre Kimyasal Yönetim Sistemi (CMS) ve SECS-II/GEM haberleşme arayüzü.
- Kritik Uygulamalar
- Yüksek hacimli yarı iletken (300mm wafer) fabrikasyon hatlarındaki çiplerin ıslak aşındırma ve IPA buhar kurutma (Marangoni drying) süreçleri.
Hareketli mekanik aksamlar (raylar ve kayışlar) tamamen izole edilmiş kapalı gövdeler içinde çalışır. Bu bölümlere sürekli negatif basınç uygulanarak, olası mekanik aşınma partikülleri doğrudan egzosta yönlendirilir, cleanroom havasına karışması önlenir.
Sistem, lot numarası, banyo sıcaklığı, proses reçetesi ve sensör verilerini milisaniyelik paketler halinde MES (Üretim Yönetim Sistemi) ağına iletir. Olası bir tolerans sapmasında ünite ilgili kaseti güvenli bekleme alanına çeker ve ana merkeze arıza kodu gönderir.
Banyo tasarımlarındaki optimize edilmiş V-taban geometrisi ve yüksek debili pnömatik vanalar sayesinde tahliye işlemleri saniyeler sürer. Aynı anda ısıtılmış taze kimyasal hattından dolum yapılarak ‘downtime’ (ölü zaman) minimize edilir.