Unités Wet Bench.
Réacteurs de préparation de surface et de gravure chimique maintenant la contamination particulaire et ionique au niveau du ppt.
Les réacteurs principaux des procédés exigeant une propreté au billionième (ppt).
Les systèmes Wet Bench sont les réacteurs principaux des procédés où la contamination particulaire et ionique doit rester au niveau du billionième (ppt). Aux étapes de préparation de surface et de gravure chimique, ils assurent une isolation totale, une stabilité hydrodynamique et une uniformité de traitement.
Wet Bench manuel Stations flexibles pour la R&D et la petite série
Conçues pour les laboratoires de R&D et les lignes de petite série, ces stations sont des barrières d’ingénierie qui portent la sécurité de l’opérateur à son maximum, sur le plan aérodynamique, dans les procédés chimiques souples où l’initiative humaine reste nécessaire. Elles conduisent avec précision le nettoyage chimique, l’immersion manuelle et la préparation de surface sur les procédés spécifiques à faible volume.
- Architecture du système
- corps monolithique en polypropylène ignifugé (FRPP) certifié FM4910 et points d’étanchéité sans joint, assemblés par soudage bout à bout à l’infrarouge.
- Contrôle des fluides et de l’extraction
- vannes manuelles à membrane PTFE et gaines d’extraction locales à flux descendant, isolant la zone respiratoire de l’opérateur.
- Applications critiques
- essais de nettoyage RCA de plaquettes dans les laboratoires universitaires de nanotechnologie et passivation manuelle d’implants en titane en production de prototypes médicaux.
Des gaines d’extraction à flux descendant disposées autour du bain et des écrans anti-projection en polycarbonate transparent isolent totalement la zone respiratoire des vapeurs chimiques.
Chaque cellule est physiquement séparée des autres par de hautes cloisons en PP, et chaque produit dispose de sa propre ligne de drainage : les liquides ne peuvent se mêler.
Le système comporte des verrouillages matériels qui coupent automatiquement l’alimentation des réchauffeurs en quartz ou revêtus de fluoropolymère dès que le niveau de liquide passe sous un seuil défini.
Wet Bench modulaire Plateformes évolutives, prêtes à raccorder
S’adaptant instantanément à des recettes changeantes et offrant, par leur structure cellulaire, une extension de capacité aussi simple qu’un raccordement, ces systèmes sont des plateformes de procédé tournées vers l’avenir. Ils permettent de reconfigurer rapidement les bains sur des lignes évolutives.
- Architecture du système
- cassettes de bain modulaires, rapides à intégrer ou à retirer de la ligne, et réseau de tubes PFA à raccords rapides.
- Réseau d’automatisation
- modules d’entrées-sorties indépendants, fonctionnant en boucle fermée et dialoguant en temps réel avec le pupitre central (IHM).
- Applications critiques
- nettoyage en série de modules RF de dimensions variables dans l’aéronautique, et pilotage de plusieurs recettes de gravure sur une seule ligne dans les centres de test de semi-conducteurs.
Des emboîtements polymères à rainure et languette, usinés sur mesure, et des joints EPDM/Viton à double lèvre empêchent au micron près tout passage de vapeur ou de liquide.
Le réseau hydraulique est équipé de régulateurs proportionnels en boucle fermée qui compensent automatiquement les variations de pression : l’ajout d’un module de rinçage n’affecte pas les débits existants.
Oui : le PLC principal reconnaît chaque module comme un nœud de procédé distinct. Les recettes se programment cellule par cellule, avec leurs propres paramètres de température, de durée et de dosage.
Wet Bench semi-automatique Réacteurs pilotés par PLC, axés sur la répétabilité
Dans ces réacteurs axés sur le rendement, les paramètres critiques — température, débit, concentration — sont confiés aux décisions autonomes de la machine, l’opérateur n’assurant que le chargement et le déchargement des cassettes. Les cycles hydrodynamiques et thermodynamiques se déroulant automatiquement, la répétabilité et la constance atteignent leur maximum.
- Dynamique de transfert
- élévateurs pneumatiques à démarrage progressif, amortissant le choc hydrodynamique à l’immersion.
- Contrôle de procédé
- autonomie du PLC, appuyée par des régulateurs de débit proportionnels et des sondes de conductivité et de résistivité de précision.
- Applications critiques
- lavage ultrasonique à l’eau ultra-pure et séchage des lentilles optiques de défense, et lignes MEMS de volume intermédiaire.
Des sondes de résistivité en ligne, placées en sortie des bains de rinçage en cascade, mesurent la pureté en continu. Le PLC ne clôt pas le cycle tant que la valeur visée — 18 MΩ·cm par exemple — n’est pas atteinte.
À partir des mesures de concentration, des pompes doseuses péristaltiques ou à membrane compensent automatiquement le produit consommé, au millilitre près.
Les vérins pneumatiques ou servomoteurs de l’élévateur suivent un profil de démarrage et d’arrêt progressif, de sorte que l’immersion ne provoque aucun choc hydrodynamique.
Wet Bench entièrement automatique Systèmes « dark factory » intégrant SECS/GEM
Éliminant toute intervention humaine et communiquant selon les principes de l’industrie 4.0 grâce à l’intégration SECS/GEM, ces systèmes représentent le sommet de la technologie d’usine autonome en boucle fermée. En production de série à fort volume, tout est piloté de bout en bout : transfert des cassettes, renouvellement des produits, détection des défauts.
- Architecture robotisée
- bras robotisés multi-axes à asservissement et carters mécaniques fermés, isolés vis-à-vis des particules.
- Intégration système
- enceinte à microclimat filtrée HEPA/ULPA, système intégré de gestion des produits chimiques (CMS) et interface de communication SECS-II/GEM.
- Applications critiques
- gravure humide et séchage à la vapeur d’IPA (effet Marangoni) des puces, sur les lignes de fabrication de semi-conducteurs 300 mm à fort volume.
Les organes mobiles — rails et courroies — travaillent dans des carters fermés et totalement isolés, maintenus en dépression permanente : les particules d’usure sont dirigées directement vers l’extraction et ne se mêlent pas à l’air de la salle blanche.
Le système transmet au réseau MES, par paquets de l’ordre de la milliseconde, le numéro de lot, la température du bain, la recette et les données de capteurs. En cas de dérive hors tolérance, l’unité retire la cassette concernée vers une zone d’attente sûre et remonte un code défaut au poste central.
La géométrie de fond en V optimisée des bains et des vannes pneumatiques à grand débit ramènent la vidange à quelques secondes. Le remplissage s’effectue simultanément depuis une ligne de produit frais préchauffé, ce qui réduit le temps mort au minimum.